聚焦东莞盛会，共绘精密研磨未来蓝图

作为中国高端纳米激光粒度分析仪领域的领军企业，珠海真理光学仪器有限公司（以下简称“真理光学”）于2025年7月24-25日受邀出席了在东莞喜来登大酒店举办的“2025年全国精密研磨抛光材料及加工技术发展论坛（第三届）”。本次论坛由中国电子材料行业协会粉体技术分会指导、粉体圈主办，汇聚了半导体、航空航天、生物医疗等领域的顶尖专家及企业代表，共同探讨精密研磨抛光技术的创新与突破。真理光学作为支持单位，携其先进的纳米粒度检测解决方案惊艳亮相，为行业带来了一场技术盛宴。

高端技术碰撞，真理光学助力精密制造升级

本届论坛以“新材料、新技术、新高度”为主题，吸引了包括广东天域半导体、中国电子科技集团第46研究所、浙江大学等200余家上下游企业及科研机构参与。真理光学作为颗粒分析表征领域的标杆，在会议中展示了其 纳米激光粒度分析技术 在精密研磨抛光中的革命性应用。

本届论坛围绕“磨料制备技术、工艺革新、装备研发”三大议题展开。多位专家（如河北工业大学何彦刚博士、大连理工大学高尚教授）的报告中强调， 亚纳米级表面粗糙度控制 已成为半导体和光学元件的关键挑战。真理光学的技术方案，通过高精度粒度分布分析（D10/D50/D90），为抛光液和磨料的优化提供了数据支撑，助力实现原子级精度的表面加工。

作为本次会议支持单位，真理光学在展区设立技术咨询台，与行业同仁深入交流。其激光粒度仪和纳米粒度仪系列产品，针对抛光浆料的均匀性和杂质控制，展示了全新系列产品。真理光学LT3600激光粒度仪凭借0.015-3600μm全量程覆盖和 10000次/秒超高速采样，解决了抛光液中纳米磨料（如纳米金刚石、氧化铈）的分布不均问题。例如，在氧化铈抛光液的应用中，其技术可识别超细颗粒团聚，避免抛光面型精度偏差，确保半导体晶圆的表面一致性。

通过Nanolink SZ902纳米粒度仪的多角度动态光散射（DLS）和Zeta电位联控 技术，真理光学实现了抛光浆料的实时稳定性监测。Zeta电位＞30mV时，浆料分散性更佳，减少烧结过程中纳米颗粒聚集导致的晶界缺陷，为碳化硅等硬脆材料的抛光提供可靠保障。

在7月25日的技术交流环节，真理光学团队与参会专家及企业代表进行了多轮深度对话和专题对接。论坛期间期间，真理光学技术骨干分别与河北工业大学、江南大学、浙江大学等国内知名的抛光技术专家分享了真理光学在纳米抛光领域的解决方案和客户案例，受到他们的关注与认可。

展望未来：深耕技术创新，共筑精密制造中国梦

本次东莞论坛不仅是技术展示的平台，更是产业协同的桥梁。真理光学将持续推动 纳米粒度检测技术 在高端研磨抛光领域的应用，助力中国精密制造迈向原子级新时代。